购买
下载掌阅APP,畅读海量书库
立即打开
畅读海量书库
扫码下载掌阅APP

六、集成电路布图设计案件审判

41.布图设计保护客体和已投入商业利用的认定

【裁判要旨】

1.布图设计图样中虽不含有源元件,但展示了有源元件与线路的三维配置关系,从而能够明确其与有源元件的接口,且在使用其他标准化元件时即能够实现相应的电路功能的,可以认为该布图设计属于“至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置”,属于布图设计专有权保护的客体。

2.布图设计完成以后确需通过测试流片以检查和验证性能,但委托制造含有该布图设计的芯片的次数和数量明显超出测试流片所需的,在无相反证据的情况下,对权利人关于该布图设计未投入商业利用的主张不予支持。

【关键词】

集成电路布图设计专有权 侵权 客体 商业利用

【案号】

(2022)最高法知民终2133号

【基本案情】

上诉人凌某科技股份有限公司与被上诉人无锡中某爱芯电子有限公司(以下简称中某电子有限公司)侵害集成电路布图设计专有权纠纷案 中,凌某科技股份有限公司系登记号为BS.17553****、名称为“GMM674芯片”的集成电路布图设计(以下简称涉案布图设计)的权利人。凌某科技股份有限公司诉称:中某电子有限公司制造和销售的被诉侵权芯片布图设计与涉案布图设计完全相同,请求判令中某电子有限公司立即停止侵权行为并赔偿经济损失2000万元、维权合理开支30万余元。中某电子有限公司辩称:1.凌某科技股份有限公司的涉案布图设计无法呈现有源器件的三维配置,不符合《集成电路布图设计保护条例》第二条第二项的规定。2.涉案布图设计的申请日是2017年10月24日,而涉案布图设计对应芯片的商业利用时间早于2015年10月24日,涉案布图设计申请日距离芯片商业利用日已经超过两年,不符合《集成电路布图设计保护条例》第十七条的规定。江苏省苏州市中级人民法院认为,凌某科技股份有限公司提交登记的布图设计图样不含任何一个有源元件,不符合布图设计的基本定义。虽然权利布图设计已获得专有权并仍处于有效状态,但由于不属于为执行某种电子功能而对元件和线路所作的三维配置,因此不能成为布图设计专有权的客体,不能受布图设计专有权保护。故于2022年6月30日作出(2021)苏05民初63号民事判决:驳回凌某科技股份有限公司的诉讼请求。凌某科技股份有限公司不服,提出上诉。最高人民法院于2024年9月12日作出(2022)最高法知民终2133号民事判决:驳回上诉,维持原判。

【裁判意见】

最高人民法院二审认为:(一)权利布图设计是否符合《集成电路布图设计保护条例》关于保护客体的要求。本案中,凌某科技股份有限公司提交的权利布图设计包括Poly、Contact层、Metal1至Metal5、Via1至Via4、Pad图层,一共12层。其中,Pad图层表示半导体电路中最上层的接口焊盘摆放的位置和大小,Metal1至Metal5图层和Via1至Via4图层表示除了硅衬底以外的电源和信息信号的金属互连结构,Poly层表示集成电路中栅极的位置和尺寸。凌某科技股份有限公司提交的上述12层布图设计图样中虽不含有源元件,但展示了有源元件与线路在Poly层、Contact层及Metal1至Metal5层的三维配置关系,从而能够明确其与有源元件的接口,在使用晶圆厂标准化元件的情况下,权利布图设计已经能够实现相应的电路功能,故可以认为权利布图设计属于至少有一个是有源元件的两个元件和部分或者全部互连线路的三维配置。此外,凌某科技股份有限公司在向国家知识产权局登记权利布图设计时提交了样品芯片GMM674,该芯片已投入商业利用,对该芯片剖片后形成的布图设计具备完整的三维配置,能够进一步说明权利布图设计三维配置的完整性。一审判决关于凌某科技股份有限公司提交登记的布图设计图样不含任何有源元件、不符合布图设计基本定义的认定,有所不当。(二)权利布图设计在本案中能否得到保护。《集成电路布图设计保护条例》规定了明确的登记时限要求,布图设计自其首次商业利用之日起2年内未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的,则不能获得登记和保护。即便该布图设计获得登记,如果有证据证明其本不应获得登记,则因其明显存在严重的权利瑕疵,其在侵权诉讼中亦不应得到保护。本案中,根据案外人和某公司出具的《关于芯片委托加工单位的说明》,2014年3月24日至2015年10月13日,该案外人先后向凌某科技股份有限公司交付了涉及9个订单号的25个批次的GMM674芯片晶圆,总计芯片数量达数百万颗。集成电路布图设计完成以后确需通过流片以检查和验证性能,但因单次流片成本极高,通常情况下流片次数不会太频繁,单次流片的晶圆数量不可能过多。凌某科技股份有限公司在19个月左右的时间内持续委托和某公司制造含有涉案布图设计的芯片,从委托次数和芯片数量上看明显超出了测试流片所需,故应当认定涉案布图设计于2015年10月24日前已投入商业利用。凌某科技股份有限公司登记的布图设计因之存在严重的权利瑕疵,故在本案中不能获得保护。国务院知识产权行政部门对于布图设计登记申请仅作初步审查,对于是否符合类似《集成电路布图设计保护条例》第十七条规定的登记时限等授权实质条件,往往是在登记后因有人提出异议并举证才能发现。如人民法院在侵权诉讼中对于当事人提出的权利质疑不作适度审查,则可能导致案件处理的明显不公。人民法院在此情况下所作的适度审查并非认定涉案布图设计应否被撤销,而是仅就该登记布图设计能否在本侵权诉讼中获得保护作出处理。综上,一审判决认定事实及适用法律虽有不当,但不影响裁判结果,予以维持。 DfIXi7EXGd19T8RR5sDiLFYI5K0R8P9IsRvMBR0sVHK2zPd47Ywyjqp2Vui2leQq

点击中间区域
呼出菜单
上一章
目录
下一章
×