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Thorsten Lill博士，美国泛林集团（Lam Research）新兴刻蚀技术和系统事业部副总裁。他在德国弗莱堡大学获得物理学博士学位，并在美国阿贡国家实验室进行博士后研究。他在该领域发表了88篇文章，拥有89项专利。
集成电路制造向几纳米节点工艺的发展，需要具有原子级保真度的刻蚀技术，原子层刻蚀（ALE）技术应运而生。本书主要内容有：热刻蚀、热各向同性ALE、自由基刻蚀、定向ALE、反应离子刻蚀、离子束刻蚀等，探讨了尚未从研究转向半导体制造的新兴刻蚀技术，涵盖了定向和各向同性ALE的最新研究和进展。本书以特定的刻蚀应用作为所讨论机制的示例，例如栅极刻蚀、接触孔刻蚀或3D NAND通道孔刻蚀，有助于对所有干法刻蚀技术的原子层次理解。
本书概念清晰，资料丰富，内容先进，可作为微电子学与固体电子学、电子科学与技术、集成电路科学与工程等专业的研究生和高年级本科生的教学参考书，也可供相关领域的工程技术人员参考。
Copyright ©2021WILEY-VCH GmbH, Boschstr.
All Rights Reserved. This translation published under license. Authorized translation from the English language edition, entitled Atomic Layer Processing: Semiconductor Dry Etching Technology, ISBN 978-3-527-34668-4, by Thorsten Lill, Published by John Wiley & Sons Ltd. No part of this book may be reproduced in any form without the written permission of the original copyrights holder.
本书中文简体字版由Wiley授权机械工业出版社出版，未经出版者书面允许，本书的任何部分不得以任何方式复制或抄袭。
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