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2.5 场效应晶体管放大电路

晶体管是一种电流控制型器件,当输入电流 I b 变化时,输出电流 I c 会随之变化;而场效应晶体管是一种电压控制型器件,当输入电压发生变化时,输出电压会发生变化。

根据结构的不同,场效应晶体管可分为结型场效应晶体管和绝缘栅型场效应晶体管,绝缘栅型场效应晶体管称作MOS管(MOS的含义为金属-氧化物-半导体),MOS管又可分成耗尽型MOS管和增强型MOS管。 同晶体管一样,场效应晶体管具有放大功能,因此它也能组成放大电路。

2.5.1 结型场效应晶体管及其放大电路

1.结型场效应晶体管

(1)结构

与晶体管一样,场效应晶体管也是由P型半导体和N型半导体组成的,晶体管有PNP型和NPN型两种,场效应晶体管则可分为P沟道和N沟道两种。 两种沟道的结型场效应晶体管的结构如图2-41所示。

图2-41a所示为N沟道场效应晶体管的结构图。从图2-41a中可以看出,场效应晶体管的内部有两块P型半导体,它们通过导线内部相连,再引出一个电极,该电极称为栅极G,两块P型半导体以外的部分均为N型半导体,在P型半导体与N型半导体的交界处形成两个耗尽层(即PN结),耗尽层的中间区域为沟道,由于沟道由N型半导体构成,所以称为N沟道,漏极D与源极S分别接在沟道的两端。

图2-41b所示为P沟道场效应晶体管的结构图。P沟道场效应晶体管的内部有两块N型半导体,栅极G与它们连接,两块N型半导体与邻近的P型半导体在交界处形成两个耗尽层,耗尽层的中间区域为P沟道。

图2-41 两种沟道的结型场效应晶体管的结构

如果在N沟道场效应晶体管D、S极之间加电压,如图2-41c所示,电源正极输出的电流就会由场效应晶体管D极流入,在内部通过沟道从S极流出,回到电源的负极。场效应晶体管流过电流的大小与沟道的宽窄有关,沟道越宽,能通过的电流越大。

(2)工作原理

场效应晶体管在电路中主要用来放大信号电压。下面通过图2-42来说明场效应晶体管的工作原理。

图2-42 场效应晶体管的工作原理

图2-42点画线框内为N沟道结型场效应晶体管结构图。当在D、S极之间加上正向电压 U DS ,会有电流从D极流向S极,若再在G、S极之间加上反向电压 U GS (P型半导体接低电位,N型半导体接高电位),如图2-42a所示,场效应晶体管内部的两个耗尽层变厚,沟道变窄,由D极流向S极的电流 I D 就会变小,反向电压 U GS 越高,沟道越窄,电流 I D 越小。

由此可见,改变G、S极之间的电压 U GS ,就能改变沟道的宽窄,从而改变D极流向S极的电流 I D 的大小,并且电流 I D 的变化较 U GS 电压的变化大得多,这就是场效应晶体管的放大原理。 场效应晶体管的放大能力大小用跨导 g m 表示,即

g m 反映了栅源电压 U GS 对漏极电流 I D 的控制能力,是表征场效应晶体管放大能力的一个重要的参数(相当于晶体管的 β ), g m 的单位是S,也可以用A/V表示。

若给N沟道结型场效应晶体管的G、S极之间加正向电压,如图2-42b所示,其内部的两个耗尽层都会导通,直至消失,不管如何增大G、S间的正向电压,沟道的宽度都不变,电流 I D 也不变化。也就是说,当给N沟道结型场效应晶体管G、S极之间加正向电压时,无法控制电流 I D 的变化。

在正常工作时,N沟道结型场效应晶体管G、S极之间应加反向电压,即 U G < U S U GS = U G -U S 为负压;P沟道结型场效应晶体管G、S极之间应加正向电压,即 U G > U S U GS = U G -U S 为正压。

2.结型场效应晶体管放大电路

结型场效应晶体管放大电路如图2-43所示。

图2-43 结型场效应晶体管放大电路

在图2-43a所示的电路中,场效应晶体管VT的G极通过 R 1 接地,G极电压 U G =0V,而VT的电流 I D 不为0(结型场效应晶体管在G极不加电压时,内部就有沟道存在),电流 I D 在流过电阻 R 2 时, R 2 上有电压 U R2 ;VT的S极电压 U S 不为0, U S = U R2 ,场效应晶体管的栅源电压 U GS = U G -U S 为负压,该电压满足场效应晶体管的工作需要。

如果交流信号电压 U i C 1 送到VT的G极,G极电压 U G 会发生变化,场效应晶体管内部沟道的宽度就会变化, I D 的大小就会发生变化,VT的D极电压有很大的变化(如 I D 增大时, U D 会下降),该变化的电压就是放大的交流信号电压,它通过 C 2 送到负载。

在图2-43b所示的电路中,电源通过 R 1 为场效应晶体管VT的G极提供电压 U G ,此电压较VT的S极电压 U S 低,这里的电压 U S 是电流 I D 流过 R 4 ,在 R 4 上得到的电压,VT的栅源电压 U GS = U G -U S 为负压,该电压能让场效应晶体管正常工作。

2.5.2 增强型绝缘栅型场效应晶体管及其放大电路

1.增强型绝缘栅型场效应晶体管

(1)符号与结构

增强型绝缘栅型场效应晶体管又称增强型MOS管,它分为N沟道MOS管和P沟道MOS管, 其电路符号如图2-44a所示,图2-44b所示为增强型N沟道MOS管(简称增强型NMOS管)的结构示意图。

图2-44 增强型绝缘栅型场效应晶体管

增强型NMOS管是以P型硅片作为基片(又称衬底),在基片上制作两个含很多杂质的N型半导体材料,再在上面制作一层很薄的二氧化硅(SiO 2 )绝缘层,在两个N型半导体材料上引出两个铝电极,分别称为漏极(D)和源极(S),在两极中间的二氧化硅绝缘层上制作一层铝制导电层,从该导电层上引出的电极称为G极。P型衬底通常与S极连接在一起。

(2)工作原理

增强型NMOS管需要加合适的电压才能工作。加有合适电压的增强型NMOS管如图2-45所示,图2-45a所示为结构图形式,图2-45b所示为电路图形式。

图2-45 加有合适电压的增强型NMOS管

如图2-45a所示,电源 E 1 通过 R 1 接场效应晶体管的D、S极,电源 E 2 通过开关S接场效应晶体管的G、S极。在开关S断开时,场效应晶体管的G极无电压,D、S极所接的两个N区之间没有导电沟道,所以两个N区之间不能导通,电流 I D 为0;如果将开关S闭合,场效应晶体管的G极获得正电压,与G极连接的铝电极有正电荷,它产生的电场穿过SiO 2 层,将P衬底的很多电子吸引靠近SiO 2 层,从而在两个N区之间出现导电沟道,由于此时D、S极之间加上正向电压,马上有电流 I D 从D极流入,再经导电沟道从S极流出。

如果改变电压 E 2 的大小,也就是改变G、S极之间的电压 U GS ,与G极相通的铝层产生的电场大小就会发生变化,SiO 2 下面的电子数量就会变化,两个N区之间沟道的宽度就会变化,流过的电流 I D 的大小会随之变化。电压 U GS 越高,沟道就越宽,电流 I D 就越大。

由此可见,改变G、S极之间的电压 U GS ,D、S极之间的内部沟道的宽窄就会发生变化,从D极流向S极的电流 I D 的大小也就发生变化,并且电流 I D 的变化较电压 U GS 的变化大得多,这就是增强型NMOS管的放大原理(即电压控制电流变化原理)。 增强型NMOS管的放大能力同样用跨导 g m 表示,即

增强型绝缘栅型场效应晶体管的特点是:在G、S极之间未加电压(即 U GS =0)时,D、S极之间没有沟道, I D =0;当G、S极之间加上合适的电压(大于开启电压 U T )时,D、S极之间有沟道形成,电压 U GS 变化时,沟道的宽窄会发生变化,电流 I D 也会变化。

对于N沟道增强型绝缘栅型场效应晶体管,G、S极之间应加正电压(即 U G > U S U GS = U G -U S 为正压),D、S极之间才会形成沟道;对于P沟道增强型绝缘栅型场效应晶体管,G、S极之间须加负电压(即 U G < U S U GS = U G -U S 为负压),D、S极之间才有沟道形成。

2.增强型绝缘栅型场效应晶体管放大电路

N沟道增强型MOS管放大电路如图2-46所示。

图2-46 N沟道增强型MOS管放大电路

2.5.3 耗尽型绝缘栅型场效应晶体管及其放大电路

1.耗尽型绝缘栅型场效应晶体管

耗尽型绝缘栅型场效应晶体管又称耗尽型MOS管,它分为N沟道MOS管和P沟道MOS管, 其电路符号如图2-47a所示,图2-47b所示为耗尽型N沟道MOS管(简称耗尽型NMOS管)的结构示意图。

图2-47 耗尽型MOS管

N沟道耗尽型MOS管是以P型硅片作为基片(又称衬底),在基片上制作两个含很多杂质的N型半导体材料,再在上面制作一层很薄的SiO 2 绝缘层,在两个N型半导体材料上引出两个铝电极,分别称为漏极(D)和源极(S),在两极中间的SiO 2 绝缘层上制作一层铝制导电层,从该导电层上引出的电极称为G极。

与增强型MOS管不同的是,在耗尽型MOS管内的SiO 2 中掺入含有大量的正电荷的杂质,它将衬底中大量的电子吸引靠近SiO 2 层,从而在两个N区之间出现导电沟道。

当场效应晶体管D、S极之间加上电源 E 1 时,由于D、S极所接的两个N区之间有导电沟道存在,所以有电流 I D 流过沟道;如果再在G、S极之间加上电源 E 2 E 2 的正极除了接S极外,还与下面的P衬底相连, E 2 的负极则与G极的铝层相通,铝层负电荷电场穿过SiO 2 层,排斥SiO 2 层下方的电子,从而使导电沟道变窄,流过导电沟道的电流 I D 减小。

如果改变电压 E 2 的大小,与G极相通的铝层产生的电场大小就会变化,SiO 2 下面的电子数量就会变化,两个N区之间导电沟道的宽度就会变化,流过的电流 I D 的大小就会变化。例如电压 E 2 增大,G极负电压更低,沟道就会变窄,电流 I D 就会减小。

耗尽型MOS管具有的特点是:在G、S极之间未加电压(即 U GS =0)时,D、S极之间就有沟道存在, I D 不为0。在工作时,N沟道耗尽型MOS管G、S极之间应加负电压,即 U G < U S U GS = U G -U S 为负压;P沟道耗尽型MOS管G、S极之间应加正电压,即 U G > U S U GS = U G -U S 为正压。

2.耗尽型绝缘栅型场效应晶体管放大电路

N沟道耗尽型绝缘栅型场效应晶体管放大电路如图2-48所示。

图2-48 N沟道耗尽型绝缘栅型场效应晶体管放大电路 NPlEJbL+ihKy9Ug8uk6bKzGyGctbr28CNqtBQJ2Mgob2wKsY3R/STW6tNYIreG/D

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