购买
下载掌阅APP,畅读海量书库
立即打开
畅读海量书库
扫码下载掌阅APP

1.6

生长机制

如前所述,粉体石墨烯结构的生长机制与CVD石墨烯在平面衬底上的生长机制是相似的。在金属催化生长路线中,金属衬底加速了碳氢化合物分子的分解,促进CH x 活性物种的C—C偶联和石墨烯的完美晶格排列,因为它既用作催化剂又用作支撑模板。然而,在无催化剂的CVD生长路线中,石墨烯的初始成核和随后的生长过程非常缓慢,主要依赖于烃分子的热分解。因此,了解这些CVD生长过程的基本原理对于调控粉体石墨烯材料的结构特征至关重要。具体而言,调整粉体石墨烯结构可以开发其独特性质,达到有针对性的应用(诸如能量存储和转换),这是非常重要的。除了常规参数(例如生长温度、压力、气体流量、催化剂等)之外,由于三维生长基底的特殊性和复杂性,应合理考虑基底形态、碳源类型和生长动力学。 o+zKY0DYbocspXrtDPIiNYguMK26xW881lyi6AjG52i2ZLW5HCfDIl0M5fQ5+kpe

点击中间区域
呼出菜单
上一章
目录
下一章
×